NVIDIA宣布将加快计算引入计算光刻技术领域的突破性成果。这一突破使ASMLL在当前生产过程接近物理极限的情况下、半导体行业的领导者，如TSMC和Synopsys，可以加速新一代芯片的设计和制造。

　　全球领先的代工TSMC，以及电子设计自动化领域的领导者Synopsys，正在将NVIDIAcuLitho计算光刻技术软件库整合到最新一代NVIDIAHopper™在软件、制造工艺和系统中构建GPU。设备制造商ASML正在GPU和cuLitho方面与NVIDIA合作，并计划在所有计算光刻软件产品中加入对GPU的支持。

　　这一进展将使未来的芯片拥有比现在更小的晶体管和导线，同时加快商品上市时间，大大提高大型数据中心的能效，驱动制造过程全天候运行。

　　“芯片产业是世界上大多数其他行业的基础，”NVIDIA创始人兼首席执行官黄仁勋说。光刻技术已经接近物理极限，NVIDIAcuLitho的推出，以及我们与TSMC的推出。、通过ASML与Synopsys的合作，晶圆厂可以提高效率，减少碳足迹，为2纳米和更高的技术奠定基础。

　　CuLitho在GPU上运行，其性能比目前的光刻技术(通常指在硅晶圆上绘制电路)提高了40倍，可以加速目前每年消耗数百亿CPU的大规模计算工作负荷。

　　有了这项技术，需要4万个CPU系统才能完成500个NVIDIADGXH100系统的工作，它们可以同时运行计算光刻过程的所有过程，有助于减少耗电和对环境的影响。

　　在短时间内，使用cuLitho的晶圆厂每天的光掩模(芯片设计模板)产量可以增加3-5倍，用电量可以比目前的设备减少9倍。原本需要两个星期才能完成的光掩模现在可以一夜之间完成。

　　从长远来看，cuLitho将为AI驱动的光刻技术带来更好的设计规则、更高的密度和产量。

　　行业领导的支持

　　NVIDIA正与行业领导一起推动这项新技术的迅速普及。

　　“cuLitho团队通过将昂贵的操作转移到GPU，在加速光刻计算方面取得了令人钦佩的进展，”TSMCCEO魏哲家说。这一成果为TSMC在芯片制造中更大程度地部署反演光刻技术、深度学习等光刻解决方案提供了新的概率，为半导体产业的不断扩大做出了重要贡献。”

　　ASMLCEOPeterWennink表示：“我们计划在所有计算光刻软件产品中加入对GPU的支持。在GPU和cuLitho上，我们与NVIDIA的合作预计将给计算光刻技术，甚至整个半导体产业的发展带来巨大的好处。High-NAEUV光刻时代将变得尤为明显。”

　　“计算光刻技术，尤其是光学相邻调整，”Synopsys董事长兼首席执行官AartdeGeus说。(OPC)推动先进芯片计算工作负载的边界。SynopsysOPC软件将通过与NVIDIA的合作，在cuLitho平台上运行，可以将原本需要几个星期才能完成的工作大大缩短到几天。这样，这个行业将继续取得惊人的进步。

　　推动半导体产业的发展

　　近年来，半导体制造中超大型工作负载所需的计算时间成本已经超过摩尔定律，因为新节点晶体管数量的增加和更严格的精度要求。未来的节点需要更详细的计算，但并不是所有的计算都能适应当前平台提供的可用计算带宽，这将缓解半导体行业的创新。

　　一般情况下，晶圆厂在改变工艺时需要修改OPC，所以会遇到瓶颈。CuLitho不仅可以帮助突破这些瓶颈，还可以提供曲线光掩模。High-新技术节点所需的解决方案和创新技术，如NAEUV光刻、亚原子光刻胶建模等。